半导体设备皇冠明珠，零件单个价值量高，技术难度大
集成电路作为我国现代化产业体系的核心枢纽，我国已形成较完整的集成电路产业链，同时拥有庞大的芯片消费市场和丰富的应用场景，政策端来看，我国对于半导体设备自主化的支持力度有望持续提升，需求端来看，国内晶圆厂扩产带来的需求有望支持国内半导体设备企业持续快速成长，半导体设备作为半导体产业链替代焦点大有可为。
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，壁垒极高，荷兰阿斯麦一家独大。2022年ASML光刻机营收约161亿美元，较2021年131亿成长23%，Canon光刻机营收约为20亿美元，Nikon光刻机业务营收约15亿美元，其中Canon与Nikon产品部分光刻机用于面板业，部分用于半导体，2022年三大企业光刻机营收合计接近200亿美元，合计市场份额超过90%。财通证券指出，光刻机的运行需光源、照明、掩膜台、物镜、工件台等多个精密系统组合工作，全球光刻零件市场至少约70亿美元（按50%毛利率推算）。相比其他半导体零件，光刻机零件单个价值量高，技术难度大。海外供应链风险剧增，国内光学企业成为不二之选，技术能力与对应产品的盈利能力有望加速成长。
上市公司中，苏大维格于2021年向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件，属于该类光刻机的核心器件。美埃科技为开发国内首台28纳米光刻设备的上海微电子装备(集团》股份有限公司所需的光刻机机台内国际最高洁净等织标准(ISOClass1级)洁净环境提供EF(超薄型设备端自带风机过滤机组)及LPA(超高效过滤器)等产品，已验收合格。