国产光刻机正悄悄“亮剑”，相关概念股集体飙涨！

9月19日，在略显平淡的A股市场中，光刻机概念股异军突起。

截至收盘，$波长光电(301421)$、$腾景科技(688195)$涨幅超14%，$凯美特气(002549)$、海立股份（600619.SH）、永新光学（603297.SH）涨停10%，新莱应材（300260.SZ）、华特气体（688268.SH）等个股亦上涨。

据媒体引述知情人士的消息透露，中芯国际（688981.SH）正在测试由上海初创公司宇量昇制造的深紫外（DUV）光刻机，该机器采用的是浸没式技术，技术路线接近阿斯麦（ASML.US）。

光刻机一直被视为半导体领域“卡脖子”的核心环节。光刻机集精密光学、机械和控制、材料等众多最尖端技术于一身，算是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

过往，中芯国际高度依赖从荷兰大厂ASML进口的DUV，但近年来由于美国的出口管制，只能获得较旧设备。据智研咨询，目前我国光刻机行业国产化率仅为2.5%，整机技术仍与海外存在较大差距。

如果能够实现DUV设备的规模化量产，将标志着国内在突破美方芯片出口管制、减少对西方技术依赖方面取得关键胜利。

此外，光刻机技术或将提升国内先进AI芯片的制造能力，对于抢占人工智能发展的高地具有战略意义。

山西证券指出，芯片生产线建设中，光刻机购置成本最高，达到设备总投资的21%—23%。国内晶圆厂建设潮和AI快速发展带动国产光刻机需求持续攀升。美国持续加大对华半导体设备出口管制，国产光刻机产业有望加速崛起。

目前中芯国际正在测试的为一台28纳米的DUV设备，该设备可利用多重曝光来生产7纳米芯片。据透露，中芯国际试用的这类设备也能被推向极限以生产5纳米处理器，但良率会偏低。

一位知情人士表示，尽管中芯国际的试验初步结果令人鼓舞，但目前尚不清楚该机器是否以及何时能用于大规模芯片生产。

除了上述技术突破的因素之外，光刻机概念的走强或也与政策以及资本因素有关。

近期，工信部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，将KrF/ArF光刻机纳入相关目录；此外，国家大基金三期宣布调整战略方向，将重点支持光刻机与芯片设计软件等关键领域的技术突破。

有分析指出，当前我国半导体产业正处在国产替代的关键时期，光刻机等核心设备的突破带来巨大投资机遇。

国金证券在研报中表示，光刻机是晶圆制造核心设备之一，技术难度高且当前国产化率低。在半导体制造领域，光刻机是延续摩尔定律的核心装备。光学系统为光刻机核心部件。建议积极关注产业链优质厂商随国产突破与加速替代产生的良机。

小结——

产业层面的技术突破、政策的支持，大基金的“钞能力”，叠加机构吹风，多重因素共振推动了光刻机板块的强势表现，后续投资者可关注板块的持续性。

作者：飞鱼